ULVAC Ei-5 (EB/RH)

• Автоматическая установка группового осаждения металлов и оксидов на подложки методом высоковакуумного испарения для НИОКР и мелкосерийного производства
• Назначение: осаждение слоев металлов и оксидов; пленок оксидов индия и олова (ITO) для солнечных элементов, интегральных схем, МЭМС, светодиодов, силовых приборов,  биполярных транзисторов с изолированным затвором и других электронных устройств
• Подложки: круглые и прямоугольные от 2” до 6” (до 8” в отдельных случаях) из кремния, многокомпонентных соединений (GaAs, GaN и прочих), стекла, сапфира и керамики
• Держатели подложек: планетарные, спутниковые и прочие
• Процессные камеры: 1
• Виды испарения: электронным лучом (EB), резистивным (ламповым) нагревом (RH), EB + RH и прочие
• Электронные пушки: (для металлов) — EGL-35M, EGN-406M с генератором HPS-1000F (10кВ) и прочие; для оксидов — EGO-40M
• Система нагрева подложки: до 9 кВт, до 450°С
• Система вращения подложек
• Система контроля толщины пленки
• Газовая система: газовые линии с РРГ
• Применяемые газы: Ar, N₂, O₂ с давлением 0,05Мпа (N₂ — до 0,5Мпа)
• Очищенный сжатый воздух: (0,4÷0,7)МПа
• Охлаждающая вода: электронная пушка — давление (0,35÷0,7)Мпа, температура (20÷25)°C; остальные блоки — давление (0,2÷0,3)Мпа, температура (20÷28)°C
• Система управления: компьютерная, с сенсорным ЖК-монитором. Содержит функции рецептов, регистрации данных, помощи в техническом обслуживании и прочие
• Вакуумная система: крионасос, безмасляные форвакуумные насосы
• Криокомпрессор
• Электроэнергия: 200В, 3ф, 50/60Гц, 50 кВА
• Размеры: основного блока – 1,26 х 1,7 х 1,95 м

к списку